光刻機(jī)運(yùn)到中國(guó)了嗎

光刻機(jī)運(yùn)到中國(guó)了。全球最大的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML宣布將六臺(tái)光刻機(jī)運(yùn)抵中國(guó)境內(nèi),，引起了各界的廣泛關(guān)注,。這意味著，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向著更加自主可控的方向邁出了重要的一步,。

時(shí)間來(lái)到11月7日上午,，中國(guó)進(jìn)口博覽會(huì)上，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）全球副總裁,、中國(guó)區(qū)總裁沈波表示,，該公司對(duì)向中國(guó)出口集成電路光刻機(jī)持開放態(tài)度 ， 對(duì)全球客戶均一視同仁 ,， 在法律法規(guī)框架下,，都將全力支持。

光刻機(jī)已經(jīng)交付了,。光刻機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備,，其工作原理基于光學(xué)技術(shù)和化學(xué)技術(shù)，光刻機(jī)通過(guò)紫外線光來(lái)投影圖像,，并通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)將圖像轉(zhuǎn)移到特定的基板表面上,。

中芯國(guó)際所采購(gòu)的ASML光刻機(jī)設(shè)備，只能夠?qū)崿F(xiàn)14nm芯片量產(chǎn),，國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)備并不是中芯國(guó)際目前所使用的光刻機(jī)設(shè)備,，而是武漢弘芯在2019年12月所購(gòu)得的7nm光刻機(jī)，當(dāng)時(shí)武漢弘芯還舉行了重大的入場(chǎng)儀式,。

光刻機(jī)中國(guó)能造嗎

能,。根據(jù)查詢中國(guó)國(guó)家品牌網(wǎng)官網(wǎng)得知，中國(guó)是可以生產(chǎn)DUV光刻機(jī)的,，能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的是上海微電子90nm的光刻機(jī),。

中國(guó)有自己的光刻機(jī)： 由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所承擔(dān)的國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過(guò)驗(yàn)收，這是世界上首臺(tái)用紫外光實(shí)現(xiàn)了22nm分辨率的超分辨光刻裝備,，為納米光學(xué)加工提供了全新的解決途徑,。

能造光刻機(jī)的國(guó)家有：荷蘭、日本,、美國(guó),、韓國(guó)、中國(guó),。荷蘭 荷蘭是高端光刻機(jī)生產(chǎn)的領(lǐng)導(dǎo)者,，該國(guó)ASML是全球最大的光刻機(jī)制造商，其高端市場(chǎng)份額占比超過(guò)80%,。

光刻機(jī)中國(guó)做不出來(lái)是因?yàn)橐驗(yàn)楣饪虣C(jī)的鏡頭技術(shù)要求很高,。要知道芯片上的電路圖都是通過(guò)印制得來(lái)的,，其必須清晰精確。只有光刻機(jī)鏡頭的性能足夠好,，光刻機(jī)在繪制電路圖的時(shí)候才不會(huì)出現(xiàn)偏差,，芯片最后的成效才會(huì)更好。

中國(guó),、日本,、荷蘭。在能夠制造機(jī)器的這幾家公司中,，尤其以荷蘭（ASML）技術(shù)最為先進(jìn),。價(jià)格也最為高昂。光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高,，堪稱人類智慧集大成的產(chǎn)物,。

全世界只有中國(guó)、日本,、荷蘭可以制造光刻機(jī),，日本的代表企業(yè)是尼康、佳能,，曾經(jīng)的光刻機(jī)“王者”,，后來(lái)被荷蘭ASML反超后就一蹶不振了，而中國(guó)也可以制造光刻機(jī),，只是達(dá)不到頂尖光刻機(jī)的精細(xì)程度。

中國(guó)光刻機(jī)現(xiàn)在達(dá)到了多少納米呢?

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)90nm,。蝕刻機(jī)達(dá)到了5nm水平,，光刻機(jī)仍然是處于90nm水平，2018年時(shí)中科院的“超分辨光刻裝備研制”通過(guò)驗(yàn)收,，它的光刻分辨力達(dá)到22nm,，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來(lái)還可用于制造10nm級(jí)別的芯片,。

納米,。根據(jù)查詢工業(yè)網(wǎng)得知，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)最大分辨率為90納米,，波長(zhǎng)193納米,。國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的最先進(jìn)型號(hào)，是來(lái)自上海微電子的SSA60020,。

曾經(jīng),，中國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)僅能達(dá)到50納米級(jí)別，但近年來(lái),，通過(guò)把握技術(shù)發(fā)展機(jī)遇,，中國(guó)光刻機(jī)技術(shù)迅速進(jìn)步,，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了25納米和18納米的生產(chǎn)精度，推動(dòng)了中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展,。

過(guò)去,，中國(guó)的光刻機(jī)只能達(dá)到50納米的生產(chǎn)精度，然而近年來(lái),，把握機(jī)遇,，大力發(fā)展技術(shù)，中國(guó)光刻機(jī)順利實(shí)現(xiàn)了25納米和18納米的生產(chǎn)精度,，成功將產(chǎn)業(yè)鏈推向更高層面,。

我國(guó)唯一一臺(tái)euv光刻機(jī)現(xiàn)狀

目前，EUV光刻機(jī)設(shè)備被ASML完全壟斷,，ASML的EUV光刻機(jī)市占率達(dá)到100%,。——以上數(shù)據(jù)參考前瞻產(chǎn)業(yè)研究院《中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃和企業(yè)戰(zhàn)略咨詢報(bào)告》,。

EUV光刻機(jī)目前已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了巨大的技術(shù)突破,，包括制程精度、光源穩(wěn)定性,、器件集成度等方面,。這為芯片制造帶來(lái)了更加先進(jìn)的技術(shù)和更低成本的解決方案。

年,，ASML成功推出了第一臺(tái)EUV光刻機(jī)NXE：3100,，為EUV光刻技術(shù)的發(fā)展打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。目前,，市場(chǎng)上主流的EUV光刻機(jī)是ASML的NXE：3400C和NXE：3400D,。

但是據(jù)相關(guān)信息透露，預(yù)計(jì)我國(guó)第一臺(tái)28納米工藝的國(guó)產(chǎn)沉浸式光刻機(jī)即將交付,。盡管國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)仍與ASML的EUV光刻機(jī)還有很大的距離,，雖然起步晚，但是國(guó)人的不斷努力,，仍會(huì)彎道超車,。

EUV光刻又叫做極紫外光刻，生產(chǎn)技術(shù)難度大,，經(jīng)濟(jì)成本高,，而高性能的芯片由需要使用EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。有數(shù)據(jù)顯示顯示,，荷蘭ASML公司2019年僅僅出貨26太光刻機(jī),，一臺(tái)EUV光刻機(jī)的價(jià)格大概在2億美元左右。

雖說(shuō)如此,，我國(guó)未來(lái)的芯片產(chǎn)業(yè)之路依然艱辛,。中芯國(guó)際花費(fèi)2億美元從荷蘭ASML公司訂購(gòu)的EUV光刻機(jī),，因?yàn)槊绹?guó)的施壓遲遲不能夠發(fā)貨，未來(lái)不排除無(wú)法到貨的可能,。美國(guó)為了徹底切斷華為的芯片供給,，不斷地對(duì)臺(tái)積電進(jìn)行施壓。