臺(tái)積電的光刻機(jī)哪里來的

臺(tái)積電是芯片設(shè)計(jì)生產(chǎn)公司,，不生產(chǎn)光刻機(jī)，其光刻機(jī)來自ASML公司,。

不是,，臺(tái)積電是ASML公司的股東之一，光刻機(jī)來自荷蘭的ASML,。

臺(tái)積電的光刻機(jī)是ASML公司的,，臺(tái)積電是芯片生產(chǎn)企業(yè)，持有ASML的股份,。

荷蘭ASML是頂級(jí)光刻機(jī)制造商,，他提供的客戶包括英特爾、三星和臺(tái)積電等等的國(guó)際芯片大廠,。能生產(chǎn)光刻機(jī)的也有不少,，包括中國(guó)也有。但真正能生產(chǎn)出工藝最先進(jìn)光刻機(jī)的世界僅此一家,，他的產(chǎn)品就算天價(jià)也會(huì)被一搶而空,。

光刻機(jī)是哪個(gè)國(guó)家生產(chǎn)的

1、光刻機(jī)的生產(chǎn)國(guó)家有荷蘭,、中國(guó),、日本、美國(guó),、韓國(guó),。相對(duì)于其他國(guó)家來說，目前的荷蘭光刻機(jī)的精度為首,。光刻機(jī)是一個(gè)制造芯片的機(jī)器,，芯片上的圖形模板（微電路）需要用機(jī)器來雕刻。

2,、中國(guó),、日本、荷蘭,。在能夠制造機(jī)器的這幾家公司中,，尤其以荷蘭（ASML）技術(shù)最為先進(jìn)。價(jià)格也最為高昂,。光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，堪稱人類智慧集大成的產(chǎn)物,。

3,、全世界只有中國(guó)、日本、荷蘭可以制造光刻機(jī),，日本的代表企業(yè)是尼康,、佳能，曾經(jīng)的光刻機(jī)“王者”,，后來被荷蘭ASML反超后就一蹶不振了,，而中國(guó)也可以制造光刻機(jī)，只是達(dá)不到頂尖光刻機(jī)的精細(xì)程度,。

4,、常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫MaskAlignmentSystem,。目前,，世界上能制造光刻機(jī)的國(guó)家有荷蘭、日本,、德國(guó)和中國(guó),。目前能制造高端光刻機(jī)的廠家有：荷蘭ASML，日本Nikon,，日本Canon,，以及上海微電子裝備和德國(guó)的歐泰克。

5,、能造光刻機(jī)的國(guó)家有：荷蘭,、日本、美國(guó),、韓國(guó),、中國(guó)。荷蘭 荷蘭是高端光刻機(jī)生產(chǎn)的領(lǐng)導(dǎo)者,，該國(guó)ASML是全球最大的光刻機(jī)制造商,，其高端市場(chǎng)份額占比超過80%。

中國(guó)光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀如何

光刻機(jī)進(jìn)口量總體增長(zhǎng),、主要從日本,、荷蘭進(jìn)口 在進(jìn)口貿(mào)易方面，數(shù)據(jù)顯示,，2017-2020年,，我國(guó)光刻機(jī)進(jìn)口數(shù)量和進(jìn)口金額均先將后升。

因?yàn)檫@個(gè)制作起來非常的困難,，而且制作起來的時(shí)間也是非常的長(zhǎng),。

中國(guó)光刻機(jī)現(xiàn)在達(dá)到了22納米。在上海微電子技術(shù)取得突破之前,，我國(guó)國(guó)產(chǎn)的光刻機(jī)一直停留在只能制造90nm制程的芯片,。這次我國(guó)直接從90nm突破到了22nm也就意味著我國(guó)在光刻機(jī)制造的一些關(guān)鍵核心領(lǐng)域上已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化,。

我國(guó)光刻機(jī)發(fā)展還是不錯(cuò)的。2020年,，“就算給你完整圖紙,，你也造不出來光刻機(jī)?！?022年1月,，“中國(guó)不太可能獨(dú)立研制出頂級(jí)光刻技術(shù)，但也不是說絕對(duì)不行,。

這也導(dǎo)致了很多科技公司不愿意往芯片這個(gè)方面發(fā)展,，這也是我國(guó)芯片落后于西方國(guó)家的其中一個(gè)原因。第三點(diǎn)便是沒有自主設(shè)計(jì)專利,。目前國(guó)際上的芯片設(shè)計(jì)專利都已經(jīng)被國(guó)外的光刻機(jī)公司壟斷,，我國(guó)能夠申請(qǐng)的專利少之又少。

進(jìn)口光刻機(jī)報(bào)關(guān)前需要準(zhǔn)備哪些資料

由客戶提供的設(shè)備國(guó)外海關(guān)編碼,，或者具體中文名稱,，型號(hào)，工作原理,，工作用途進(jìn)一步確認(rèn),。國(guó)外中檢：我們負(fù)責(zé)聯(lián)系國(guó)外二手設(shè)備供應(yīng)商工廠或公司附近的中檢公司（簡(jiǎn)稱：CCIC）。

準(zhǔn)備資料 在進(jìn)口前,，需要準(zhǔn)備好以下文件：進(jìn)口合同：是指買賣雙方簽訂的合同,，規(guī)定進(jìn)口商品的品種、數(shù)量,、質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),、價(jià)格、支付方式,、交貨期限等相關(guān)內(nèi)容,。

準(zhǔn)備資料 在進(jìn)行進(jìn)口報(bào)關(guān)前，需要準(zhǔn)備相關(guān)資料,，包括進(jìn)口合同,、發(fā)票、裝箱單,、提單,、出口國(guó)檢證明、產(chǎn)地證明,、商檢證書等,。這些資料需要在貨物到港前準(zhǔn)備齊全，并按照海關(guān)規(guī)定進(jìn)行整理和分類,。

2021年中國(guó)進(jìn)口了多少光刻機(jī)生產(chǎn)的新區(qū)

1,、根據(jù)查詢2023年中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)研究報(bào)告得知,，2021年國(guó)內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)量為75臺(tái)，2022年中國(guó)光刻機(jī)的產(chǎn)量為95臺(tái),，2023年中國(guó)從全球最大的光刻機(jī)供應(yīng)商荷蘭ASML公司購(gòu)買了400臺(tái)最新的光刻機(jī)，所以截止至2023年中國(guó)一共有570臺(tái),。

2,、在進(jìn)口貿(mào)易方面，數(shù)據(jù)顯示,，2017-2020年,，我國(guó)光刻機(jī)進(jìn)口數(shù)量和進(jìn)口金額均先將后升。2020年,，進(jìn)口數(shù)量為239臺(tái),，進(jìn)口金額為155億美元；2021年1-7月,，進(jìn)口數(shù)量和金額分別為248臺(tái),、7億美元，均超過了2020年全年水平,。

3,、眾所周知，EUV光刻機(jī)是高端芯片制造不可或缺的核心設(shè)備,，極為精密復(fù)雜,，全球能生產(chǎn)的只有荷蘭光刻巨頭ASML。但其產(chǎn)線上含有超過20%的美技術(shù)配件,，在美國(guó)的干預(yù)下,，ASML始終無法對(duì)華出口EUV設(shè)備。

12英寸芯片的光刻機(jī)設(shè)備需要進(jìn)口嗎

例如,，12英寸大硅片和高端光刻膠基本上都依賴進(jìn)口,，并且進(jìn)口替代品的空間非常大， 晶圓制造材料的種類很多,，其中硅晶圓占33％,，是最大的類別，其次是電子特殊氣體占比12%,，光掩模15%,，光刻膠和輔助材料12%。

目前ASML最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),，即將投入三星,、臺(tái)積電的7納米工藝，而國(guó)內(nèi)上海微電子的光刻機(jī),，仍停留在90納米量產(chǎn)的水平,。材料方面,，日本是全球領(lǐng)先者。

眾所周知,，研發(fā)芯片所需的材料是光刻膠,，眼下國(guó)際上的高端光刻膠產(chǎn)品一直被日本企業(yè)所壟斷， 國(guó)內(nèi)所用的光刻膠有九成需要進(jìn)口 ,。面對(duì)被壟斷的壓力,，國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)開始了自主研發(fā)的計(jì)劃。

芯片的生產(chǎn)至少需要七個(gè)主要過程,，即擴(kuò)散,、光刻、蝕刻,、離子注入,、薄膜生長(zhǎng)、拋光和金屬化,。

就連內(nèi)地的頭部企業(yè)也受制于人美國(guó)新政,，這徹底揭開了中國(guó)技術(shù)應(yīng)用的短處。芯片制造至關(guān)重要的專用設(shè)備便是光刻機(jī),，盡管中芯國(guó)際現(xiàn)階段完成了14nm芯片的生產(chǎn)加工,，但其采用的光刻機(jī)專用設(shè)備均來于國(guó)外進(jìn)口。